Advanced Energy 在SEMICON WEST 2020 展覽期內推出三款全新的製程設備電源產品

台灣 - Media OutReach - 二零二零年八月三日 - Advanced Energy (Nasdaq: AEIS) 一直致力於開發各種先進的高精確度電源轉換、測量和控制系統等解決方案，這方面的技術更一直領先全球。該公司宣佈推出三個可支援先進技術節點半導體晶圓製程設備的全新解決方案。

Advanced Energy 半導體產品副總裁暨總經理 Peter Gillespie 表示﹕「隨著第4次工業革命揭開帷幕，半導體製造技術不斷發展，並且迅速掀起翻天覆地的轉變。在開發相關的電源解決方案時，Advanced Energy 一直走在發展的前沿，我們的電源系統可確保半導體產品外形更為小巧，也讓生產商可以更快速、更嚴格控制製程，而且又可降低擁有成本，因此廠商客戶都很倚重我們這方面的技術生產各種晶片，新晶片的量產又帶動整個資訊業的發展。製程設備電源系統以前幾乎完全被人忽視，現在則越來越多人肯定其重要性，認為製程設備電源技術在整個晶圓生產過程中發揮極具關鍵的作用。我們很樂意分享我們這方面的產品，例如"可支援整個製程的電源產品"。我們也會在展覽期內率先推出"可支援整個平台的電源產品"，其中包括 Advanced Energy 雅特生科技產品部的一系列電源產品。」

Advanced Energy 推出以下幾個極具價值的全新系統解決方案，新的電源技術顯示電源系統如何以全新的方法為電漿製程設備提供供電：

eVoS™ LE: Advanced Energy 推出一項嶄新的非正弦波電漿製程設備電源供應技術。這個稱為eVoS的平台可以控制投射在物料表面極少範圍內的離子能量。這是先進蝕刻和沉積製程所越來越倚重的技術，可用於生產精密的5奈米(nm)及以下的晶圓。一向以來，正弦波射頻偏壓電漿製程採用一種較為複雜的多頻率電源系統，而eVoS平台則是一個產生離子能量分佈較窄的客製化方案，為市場提供另一個較為簡單的選擇。Advanced Energy 這個解決方案可確保離子能量分佈範圍更加直接受到控制，也有助於提高偏壓電源的能效，而且可降低電源損耗，較傳統的解決方案更優勝。晶圓的封裝大小設計日趨複雜，要解決生產上的問題就必須充分利用這項新技術的優點。eVoS LE (即低能量)則可提供容易準確控制供電量的電源系統，最適用於極重要的電漿製程方面的應用，例如，原子層蝕刻(ALE)、蝕刻、清潔、沉積和原子層沉積(ALD)。

Navigator^® II FCi: Advanced Energy 的 Navigator II 一直是領先業界的阻抗匹配網路平台，大受市場歡迎。該公司現在乘勢推出一款全新的 Navigator II FCi。這款更快的固態匹配網路平台無論在價值、速度以及調頻範圍都勝於標準的匹配器產品。Navigator II FCi 採用高速的PIN型二極體技術，與Advanced Energy 早前率先在市場推出的 Navigator II FastCap™ 固態匹配器各有優點，兩者可產生相輔相成的作用，讓功率輸出和阻抗範圍可以擴大，反應時間也可縮短至次毫秒(ms)水平。Navigator II FCi 没有轉動的零部件，因此其可靠性和可複製性優於傳統的真空電容匹配器。Navigator II FCi 可支援與原子層蝕刻有關的先進應用，並加強其功能，讓這類應用可支援各式各樣日漸增多的應用，以滿足新產品市場的規格要求。例如，稱為 Paramount HFi 的全新射頻電源供應系統除了整合匹配器和產生器之外，也同樣採用 Navigator II FCi 這種高速PIN型二極體技術。